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第29章 安集科技688019的前世今生（第1页）

创业起点：怀揣梦想，开启征程

2004

年，在半导体行业的版图上，一颗新星悄然升起，安集科技在上海这片充满机遇与挑战的土地上诞生，创始人王淑敏，这位有着深厚海外背景的科研人才，毅然决然地踏上回国创业之路，立志填补国内高端半导体材料的空白。此前，王淑敏在美国莱斯大学取得材料化学博士学位后，先后在

ibm

及半导体材料领域的知名企业

cabot

microelectronics

担任重要职位

，积累了丰富的行业经验和前沿技术知识。

彼时的中国，半导体产业虽已初见雏形，但在高端材料领域，却严重依赖进口。从芯片制造所需的关键化学机械抛光液，到光刻胶去除剂等功能性湿电子化学品，几乎完全被国外企业垄断。这不仅限制了国内半导体企业的发展，也让王淑敏看到了巨大的发展潜力和使命。“当时中国已经是经济大国，但半导体材料却如此匮乏，我就想为国家留下点什么。”

王淑敏回忆起创业初衷时说道。带着这样的信念，她与几位志同道合的伙伴，在上海张江开启了安集科技的创业征程。

创业初期，安集科技面临着诸多困难。资金短缺、人才匮乏、技术研发难度大，每一个问题都像一座大山横亘在前行的道路上。与国外成熟的半导体企业相比，安集科技就像一个蹒跚学步的婴儿，在资源和条件上有着天壤之别。王淑敏曾感慨地说：“回国创业，就像从云端一下子掉到了谷底，原来在国外公司的优厚待遇和充足研发资源都没了，但我从未想过放弃。”

为了节省资金，团队成员们在简陋的办公室里日夜奋战，常常身兼数职。在技术研发上，他们面临着国外技术封锁，没有现成的经验可以借鉴，只能靠自己一点点摸索。

成长之路：突破技术，崭露头角

在艰难的创业环境中，安集科技没有退缩，而是凭借着坚定的信念和不懈的努力，踏上了漫长而艰辛的技术研发之路。他们深知，只有掌握核心技术，才能在激烈的市场竞争中立于不败之地。

经过多年的潜心研究和无数次的试验，安集科技终于在化学机械抛光液和光刻胶去除剂领域取得了重大突破。其研发的化学机械抛光液，成功打破了国外企业的长期垄断，实现了进口替代，填补了国内高端半导体材料的空白。这一成果，犹如一颗重磅炸弹，在半导体行业引起了巨大的轰动。“我们的抛光液在性能上已经达到甚至超过了国外同类产品，而且我们能够根据客户的需求，提供定制化的解决方案。”

安集科技的技术负责人自豪地说。

安集科技的产品不仅在性能上表现出色，而且在应用领域也不断拓展。其化学机械抛光液已成功应用于

130

-

14nm

逻辑芯片工艺、存储芯片工艺和三维集成工艺，10

-

7nm

技术节点产品也正在研发中。这意味着安集科技的产品能够满足不同客户、不同制程的需求，为国内半导体产业的升级提供了有力支持。

随着技术的突破和产品的不断完善，安集科技开始逐渐在市场上崭露头角。他们的客户群体不断扩大，不仅包括中芯国际、台积电、长江存储、华润微、华虹宏力、士兰微、三安光电等国内知名企业，还成功打入了国际市场，与一些国际半导体巨头建立了合作关系。安集科技的市场份额也在逐年提升，根据

techet

报告测算，公司

cmp

抛光液在全球市场份额从最初的不到

1%，逐步提升到

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