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3纳米极紫外光?
检测光束设备给出的数据反馈让所有人大吃一惊,3纳米的极紫外光束,这岂不是说他们即将具备制造3纳米芯片的条件?
众所周知,在不考虑《多重曝光技术的情况下,想要刻出几纳米级的芯片,就要先制造出多少纳米的紫外光光源。
193纳米的深紫外光还好说,大自然里面也能找得到,但135纳米及以下的极紫外光,那就必须由人为创造。
深紫外光和极紫外光,和分别对应了duv光刻机和euv光刻机,后者现在还处于禁止出口龙国的设备清单里面。
一旦这束光源被证实,确实是可以运用于光刻的极紫外光,那么整个芯片行业都将被颠覆。
“真是3纳米吗?”
夏扬神色激动,向前一步。
他大学虽然学的不是半导体,但这并不代表他不懂芯片制造。
想要光刻14纳米芯片,就要制造135纳米波长的极紫外光,这在各种半导体咨询媒体铺天盖地宣传下,早已经人尽皆知。
3纳米波长?
岂不是能刻3纳米芯片?
雷兵也忍不住上前一步,询问道:“这束光能用吗?如果能用是不是意味着我们能造3纳米芯片了?”
现在主流芯片是14纳米,无论是龙兴科技的c上帝芯片,还是苹果公司的a9s仿生芯片,亦或者说是髙通公司刚刚推出的骁龙821芯片,它们都是14纳米制程,根本够不着3纳米的边边。
要是真能造3纳米芯片,那可不是小小的科技震撼,而是向整个半导体芯片行业扔了个蘑菇弹,要颠覆整个行业的事情了。
“不能这样说。”
陈星从震撼中回过神,给雷兵与夏扬讲解道:“具备光源还不够,如果真要造3纳米芯片,我们还要经历芯片设计与研制光刻胶。”
在半导体领域,可不仅仅光刻机和紫外光有纳米等级,光刻胶同样有纳米等级区分。
像目前龙兴化工研制的1号光刻胶,它的曝光波长就在193纳米,最高支持7纳米芯片制造,这还是有多重曝光技术加持的情况下。
想要制造出3纳米芯片,3纳米极紫外光、3纳米芯片电路设计、3纳米曝光波长光刻胶缺一不可,这也是为什么,芯片纳米等级推进缓慢的原因。
每推进一步,都需要各行业跟进,一旦说光刻胶不行,那有极紫外光和电路设计图也没用。
正因为技术门槛高,大洋彼岸才能用芯片做文章。
“总裁说得没错。”林天也给予了肯定,他回头看向两位局长道:“现在说3纳米芯片还为时过早,不过我们可以先试试这135纳米波长的极紫外光,看看它能不能满足芯片生产需求。”
“这句话在理。”
“确实是我们操之过急了。”
雷兵和夏扬点了点头。
他们属于是懂一点,但并不知道半导体芯片领域可不仅仅只有极紫外光,还有n多的细枝末节,只有全部攻克才能造出芯片。
“趁着天没亮,我们尽快测试光束的可行性吧。”陈星提醒一句。
他们现在可是关了全深城的电力供应,哪怕是凌晨4点钟,但依然会对城市造成影响。
“我马上操作。”
林天点了点头回应道。
刚说完,他立马看向设备操控台,开始输入指令,时不时还跑到一侧去操作。
光刻工厂不同于光刻机,它更像是一条完整的自动化流水线,只需要装填半导体硅片以及光刻胶与配套试剂,输入指令后就可以进行自动化生产。
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